離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。

陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長方形或圓形）窄縫中施加強(qiáng)磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于光學(xué)鍍膜并不太多。

考夫曼離子源是應(yīng)用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內(nèi)腔產(chǎn)生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產(chǎn)生的離子方向性強(qiáng)，離子能量帶寬集中，可廣泛應(yīng)用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應(yīng)氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對需要大離子流量的用戶可能不適和。

霍爾離子源是陽極在一個強(qiáng)軸向磁場的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強(qiáng)，霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。